Китайские инженеры завершили разработку экспериментальной системы для EUV-литографии. Команда специалистов, ранее работавших в нидерландской ASML, провела анализ существующих установок для воссоздания технологии. Тестовый образец уже производит требуемое излучение, однако полноценное изготовление микропроцессоров на нём пока не осуществляется.
Этот успех опровергает апрельские прогнозы руководства ASML, заявлявшего о необходимости «многих лет» для освоения технологии Китаем. Специалисты считают, что применение компонентов с рынка б/у оборудования позволит стране наладить выпуск процессоров к 2028 году.
Разработка велась шесть лет в рамках закрытой программы, известной как «Китайский Манхэттенский проект». Как сообщают инсайдеры, конечная цель инициативы — производство микрочипов на полностью локализованных машинах, что устранит зависимость от американских поставок.
Для реализации проекта была организована кампания по привлечению кадров. В команду вошли отраслевые эксперты и китайские инженеры, ранее трудившиеся в ASML. Набор сопровождался мерами повышенной секретности, включая изготовление фиктивных документов для сотрудников. Специалистам предоставляли жильё и увеличенные выплаты. Сейчас примерно 100 человек под видеоконтролем занимаются исследовательской работой.
Созданный прототип пока уступает разработкам ASML. Китайская система отличается громоздкими размерами и менее совершенной конструкцией. Ключевой технологической проблемой остаётся создание прецизионной оптики уровня Carl Zeiss. При этом инженеры Китайской академии наук смогли успешно объединить источник излучения с оптическими компонентами для проведения тестов.
Компания Huawei принимает непосредственное участие в проекте, контролируя все этапы от проектирования до сборки. Несмотря на экспортные барьеры, КНР продолжает закупать детали через посредников и вторичные рынки. По словам экс-сотрудника ASML, техническое воплощение возможно — осталось лишь достичь требуемой точности и надёжности.